中国能做3纳米的光刻机吗？

光刻机是制造芯片的一种核心装备，它在制造芯片工艺流程中有着不可替代的作用。如果我国能制造3纳米的光刻机，那么我想也能够制造出3纳米的芯片了，我们用一句流行的话说“理想很丰满，现实很骨感”，严峻的事实告诉我们，到目前为止我们国家连7纳米的芯片都造不出的，更不用说3纳米的光刻机了，就目前来说全世界能生产3纳米光刻机的国家可以说也是寥寥无几的。

就当前来说能生产7纳米光刻机的国家就只有两个，一个是被称为“风车之国”的荷兰，另一个是被誉为“樱花之国”的日本，对于能生产5纳米的光刻机的国家也只有荷兰这一个国家了，在荷兰有一家专门生产光刻机的公司名叫阿斯麦（ASML），它目前能够生产5纳米的光刻机，目前它在生产5纳米光刻机上处于垄断地位，连日本的尼康和佳能这两家公司都不能生产。那么对于3纳米光刻机的生产技术，预计在2020年底到2021年初荷兰的阿斯麦公司可能生产出来。由此可见，我们国家到目前为止连14纳米的光刻机都无法生产出来的，就不用说3纳米的光刻机了。我们从美国禁止中国华为使用美国高端芯片来看，我国在光刻机制造方面与国际上先进的光刻机制造技术还是有很大的差距的，据我保守估计，在未来5年内我国是无法达到生产3纳米光刻机能力的。

对于高端光刻机制造的难度是非常大的，它的难度要远超于原子弹和氢弹的制造技术，我们知道掌握原子弹技术的国家在全世界除了联合国五个常任理事国之外，像印度、巴基斯坦、以色列、南非等八九个国家都可以制造，具有制造原子弹能力的国家也有一些，比如日本、德国等，但由于受到限制这些国家无法制造。那么对于能生产7纳米的光刻机的国家来说只有荷兰和日本这两个国家，而能生产5纳米光刻机的国家只有荷兰这一个国家，由此可见光刻机的制造难度是非常之大的。我们可以举个例子，我看到一期高端访谈的视频节目，就是关于讨论光刻机制造的问题，在节目中一位专家举了一个例子，在光刻机中有两个部件需要同步运转，它们的同步运作要求十分严苛，就好比两架同时起飞的飞机，有一架飞机上伸出一把刻刀，另一架飞机上伸出一个大米粒，需要这把刻刀能够在米粒上刻出图案来，从这个例子中可以看出，光刻机对控制系统精密度的要求是有多么的高。这个例子只是光刻机中的一个部件，因为一台光刻机中的零部件多达近十万个。

就拿能生产高端光刻机的荷兰来说，它生产5纳米光刻机所用的很多重要部件很多都是自己所不能生产的，这些精密的部件有的来自美国、有的来自德国等，可惜的是没有一个部件是来自中国的。

我国光刻机其实发展的还是比较早的，早在上个世纪六十年代集成芯片问世的初期就被提上了日程，由于种种原因，直到本世纪初才在上海成立了一家生产光刻机的企业，它的名字叫上海微电子。到目前为止这家企业预计到明年，也就是2021年能够生产出28纳米的光刻机，这比以前90纳米的光刻机生产技术来说确实是一个重大的进步，但是与国际上7纳米和5纳米的先进主流光刻机技术相比差距还是不小的。我们有句古话叫“不积跬步无以至千里”，我们从90纳米跨越到28纳米，与自己相比来说确实是一个重大的进步。

毕竟在一些高端技术上，西方国家是卡我们的，很多先进部件是不卖给我们的，这些主要靠自己去突破。我们只要一步一个脚印，从90纳米跨越到28纳米，再跨越到14纳米、7纳米、5纳米最后达到3纳米，我认为这只是时间的问题。