1nm光刻机迎突破

11月30日最新报道，近日荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）又送来一则好消息，该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。

据了解，先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时，ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划，预计相应的曝光设备全线准备好之后，会在2022年实现商业化。

　　

然而，这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际，我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉，中芯国际于2018年自阿斯麦（ASML）手上购买了一台价值约1.2亿美元（折合约7.9亿元人民币）的EUV光刻机。

由于订购的设备一直没到手，中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出，将原本约457亿元的开支计划减少了55亿元至约402亿元。那么，之后中芯国际有没有可能彻底取消这笔买卖呢？恐怕还不好说，毕竟当前全球能造出EUV光刻机的仅有阿斯麦一家。

　　

不过，中企也很有可能从韩国身上找到“转机”。据韩国媒体11月16日报道，韩国知识产权局（KIPO）发布的报告显示，经过长达10年的发展与钻研（2011－2020年），该国EUV光刻专利已经高达193项。而在此之前，全球光刻市场是美国企业Cymer公司“一家独大”。

　　

要知道，当前韩国电子巨头三星正盼能从我国半导体市场“分得一块蛋糕”。据悉，11月12日当天，三星首次面向我国发布了芯片产品——Exynos1080，还宣布将向我国智能手机制造巨头vivo供应5nm高端芯片。

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内容来源：TechWeb网站

本期编辑：小艾 
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